工业纯水edi设备1518兆欧超纯水之选
工艺原理
1.1、EDI电除盐工艺概述
EDI是一种结合了电渗析技术和离子交换技术的先进方法，通过系统精确控制的电磁场与离子交换膜以及离子交换树脂相互作用，实现对阴阳离子的选择性透过和离子的定向迁移。在直流电场的驱动下，可以高效地完成水的深度去盐化。这种系统能够实现连续自动再生，不需要停机使用酸碱再生树脂，从而保证了稳定的高品质纯水生产，并且产水电阻率可以达到15-18MΩ·cm。
电除盐(EDI)系统优势分析：
与传统阴阳离子交换柱相比，EDI系统具有以下优点：
(1)节省化学再生剂，减少酸碱消耗。
(2)支持长时间连续运行，无需中断。
(3)提供一致的水质输出。
(4)操作简便，劳动强度降低。
(5)运营成本较低。
通过将反渗透技术与EDI技术有效结合，可以实现一次性去盐，再次应用EDII技以进行二次去盐，从而使得纯水制造过程更加连续可靠。因此，EDII技在改善现有水处理工艺方面起到了重要作用。
1.2、抛光混床工艺介绍
抛光混床又称为单体混合床，它通常用于超纯水处理系统中的最后一个步骤，以确保最终产品符合严格标准。根据需求，可采用单级或双级设计。经过抛光混床处理后的出液，其电阻率能稳定维持在18.2MΩ.cm以上，对于TOC、硅及硼等污染物都有一定的控制能力。此外，该类型的树脂安装后即可使用，无需进一步化学回收。
抛光混床所采用的树脂是由近乎密度相同的阴性和阳性树胶混合而成，由于无法分割这些组分，因此当它们失效时，只能完全更换新材料。这导致每个周期约为一年左右，即其使用寿命大约为1到1.5年。此类设备常用于太阳能板、半导体芯片及液晶显示屏等领域。
获得产物质量指标
二级RO+EDI制备出的纯净水，其25℃下的最大允许总溶解固体(TDS)含量应不超过0.06mg/L，并且其25℃下的最小允许导电率应不低于15 MΩ·cm。
若加入抛光环节后，即二级RO+EDI+抛光制备出的超纯净水，其25℃下的最小允许导电率应达20 MΩ·cm以上，同时对于TOC（总有机碳）、硅（Si）及硼（B）的含量也要做到一定程度上的限制和控制。
工程实施流程
3.1、二级RO+EDI制备超纯净 水工程流程图说明
[详细描述]
3.2、二级RO+EDA/抛光环节合并制备超純净 水工程流程图解释
[详细描述]
