超纯水净化系统精确清洗半导体芯片
在电子工业的精密领域，超纯水设备扮演着至关重要的角色。这些设备能够生产出符合国际标准的超纯水，包括美国ASTM、我国电子工业部等级标准，以及日本及国内外集成电路行业的规范。在光电材料、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏以及高品质灯管显像管等产品中，清洗半成品和成品所需的大量高纯水和超纯水，是确保这些高科技产品质量的一大挑战。
随着集成电路技术不断进步，对于清洗过程中的水质要求日益严格。这不仅需要更先进的超纯水处理工艺，也对设备自动化程度、连续性和可持续性提出了更高要求。现有的半导体芯片清洗超纯水设备主要包含以下几个环节：预处理系统，反渗透系统、中间水箱、精混合床、高级过滤器，最终达到≥15MΩ.CM（传统工艺）或≥16MΩ.CM（改进工艺）的极低电阻率。
此外，还有一种更加先进的EDI装置结合使用，可以进一步提高到≥17MΩ.CM。这种设备广泛应用于各种场合，如电子容器生产铝箔清洗、电子管阴极涂敷碳酸盐配液、新型显像管与阴极射线管生产以及其他涉及到精细化学处理和印刷电路板制造的地方。此类设备对于实验室、中试车间乃至汽车表面抛光也具有不可或缺的地位。
