超纯水一体机轻松清洗半导体芯片
在电子工业的发展中，高纯水和超纯水成为了半导体芯片清洗过程中的关键因素。这些设备能够生产出符合国际标准的超纯水，如美国ASTM、我国电子级水质技术标准、以及日本集成电路水质标准等。除了用于半导体制造外，这种超纯水还广泛应用于光电材料生产、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管以及微电子工业。
新一代的集成电路要求更高的清洁程度，因此对超纯水处理工艺提出了更严格的要求。这包括简化操作流程、提高自动化水平，以及保证连续性和可持续性。此外，随着集成度的提升，对用水对象（≥15MΩ.CM）的质量要求也越来越高。
半导体芯片清洗超纯水设备通常采用以下工艺：预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器。不同的工艺流程可能会有所差异，但总目标是确保出厂产品达到或超过16MΩ.CM或17MΩ.CM等级。
这种设备不仅限于半导体行业，还可以应用于其他领域，如电解电容器生产铝箔及工作件清洗、电子管阴极涂敷碳酸盐配液制作等。此外，它们也是实验室、中试车间以及汽车和家电表面抛光过程不可或缺的一部分，为各种精密产品提供了必要的手段。
