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超纯净水清洗系统保障半导体芯片的卓越性能

在电子工业的精密领域,超纯水设备扮演着至关重要的角色。这些设备能够提供符合国际标准的超纯水,为半导体芯片清洗和相关行业提供高质量的清洁解决方案。美国ASTM、中国电子工业部以及日本等国家和地区都有自己的严格标准来确保电子级水质,这些标准包括18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm和0.5MΩ.cm五个级别。

除了大规模集成电路外,光电材料生产与加工,也需要大量高纯或超纯水进行清洗。这包括LCD液晶显示屏和PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管以及微电子工业中的FPC/PCB线路板和大规模集成电路。随着集成度的提高,对于水质要求也越来越严格,不仅需要考虑处理工艺简易性、自动化程度,还要保证生产连续性和可持续性。

半导体芯片清洗超纯水设备通常采用以下几种制备工艺:

预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器(传统工艺)

预处理系统 → 反渗透系统 → 中间水箱 → 水泵 → EDI装置 → 纯水箱 → 纯水泵 → 紫外线杀菌器 -> 抛光混床 -> 0.2或0.5μm 精密过滤器(现代工艺)

预处理系统 -> 一级反渗透 -> 加药机(PH调节)-> 中间 water tank -> 第二级反渗透(正电荷反渗膜)-> pure water tank -> pure water pump -> EDI装置-> 紫外线杀菌器-> 0.2或0.5μm 精密过滤器(最先进工艺)

这些设备不仅适用于半导体行业,还广泛应用于其他领域,如:电解电容器生产铝箔及工作件清洗;电子管生产阴极涂敷碳酸盐配液;显像管和阴极射线管生产配料用途;黑白显像管荧光屏生产玻壳清洗等。此外,它们还被用于实验室、中试车间,以及汽车、家电表面抛光处等场合,尤其是那些需要使用高科技产品的地方。

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