超纯水大师大型净水设备安装流程之冠助力半导体芯片清洗新篇章
在电子工业的精密领域，超纯水设备扮演着至关重要的角色。这些设备能够提供符合国际标准的超纯水，为半导体芯片清洗和光电材料生产、加工、清洗等行业提供必要的高纯度水质。在美国ASTM标准、中国电子工业部的电子级水质技术标准以及日本集成电路水质标准等多个国家和地区都有严格规定，要求超纯水处理工艺达到极其高水平。
新兴技术如大规模集成电路、高品质灯管显像管等对超纯水需求日益增长，这不仅反映了对清洁程度和稳定性的追求，也迫使超纯水处理系统不断提升自动化程度和连续性，以适应未来更加复杂和精细化的大型集成电路制造流程。
半导体芯片清洗超纯水设备通常采用以下几种不同的制备工艺：
传统工艺：预处理系统通过反渗透系统净化，然后中间储存，在精混合床中调整pH值，最终经过紫外线杀菌器、抛光混床和精密过滤器后达到15MΩ.CM以上质量，用以供各类半导体产品使用。
高级工艺：首先进行预处理再次通过一级反渗透，接着在加药机中调节pH值，再经历二级反渗透膜后的第二次净化，最终利用EDI装置进一步提高到16MΩ.CM以上，使得用途更广泛。
最新工艺：采取三级过滤模式，即预处理→一级反渗透→二次加药（pH调节）→正电荷反渗膜二次净化→EDR装置最后一道筛选，从而达到了17MΩ.CM或更高的性能参数。
此外，该类型设备也广泛应用于各种场合，如：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产中的阴极涂敷碳酸盐配液
显像管与阴极射线管生产中的配料用純 水
黑白显像管荧光屏生产过程中的玻壳清洗、沉淀及湿润
液晶显示器屏面及其配液需要之处
总之，半导体芯片清洗所需的超pure water equipment是确保整个电子产业链条可持续发展的一项关键基础设施。
