家用纯净水制水设备1518兆欧超纯水之选
工艺原理
1.1、EDI电除盐工艺
EDI是一种结合了电渗析技术和离子交换技术的先进处理方法。系统通过阴阳离子交换膜与离子交换树脂的协同作用，利用直流电场促进定向迁移，实现水体深度去盐化。其独特之处在于能够无需停机即可自动进行再生，不依赖于酸碱再生树脂，从而确保连续高效制备纯水，其产水电阻率可达15-18MΩ·cm。
电除盐(EDI)系统具备多项优势：
无需化学再生，显著节约酸碱消耗。
具有连续运行能力，便于管理且操作简单。
提供稳定的水质，降低运行成本。
运行费用较低。
利用反渗透技术作为基础，再辅以EDI技术，可实现一次性去盐过程，使得纯水生产过程更加连续、高效，并避免使用酸碱再生的必要性。因此，EDI技术对改善水处理领域具有重要意义。
1.2、抛光混床工艺
抛光混床，又称为一次性混床，是超纯水处理系统中用于保障出水质量的一种关键设备。在根据出 水标准设定的条件下，可以采用单级或双级配置。一旦经过抛光混床的过滤后，产出的超纯水能达到18.2MΩ.cm以上，对TOC、硅、硼等微污染物也有所控制。此外，由于树脂初期是H型和OH型，只需装填即可使用，无需进一步的回收或再生工作。当树脂失效时，则需要更换新的产品。
抛光混床采用的树脂是由相近密度的阴阳树脂混合而成，这种混合物难以分离，因此无法通过酸碱方法进行单独再生，当其到达寿命极限（一般为1-1.5年）后，将被废弃不复用。
抛光混床通常应用于精细化工行业，如半导体制造、液晶面板制作等领域，以保证最终产品质量要求严格的情况下提供足够洁净的资源支持。
产出品质标准
a) 二级RO+EDI电除盐处理后的产物，其25℃下的最大允许电阻率不小于15MΩ·cm。
b) 若进一步增加抛光层次处理，即二级RO+EDI+抛光体系，其25℃下的最大允许电阻率则可以达到18MΩ·cm或以上。这一增强版本对于那些对微污染物含量有极致要求的应用尤为关键，如电子元件制造业中的高端IC芯片生产线等场合必不可少。
工艺流程图解释
3.1、二级RO+EDA联合运作流程图展示了此一工艺步骤如何通过反渗透与EDIs结合来有效提升去盐效果，最终生成符合上述标准的大规模超纯水源。
3.2、二级RO+EDA联合加上抛光层次处理的全套工艺流程图详细阐明了这一切组合各自功能并协同工作以创造最高品质超清澈之汁。在这个阶段，我们将看到每一步都在追求极致清洁，以满足所有涉及到的工业需求和质量指标。
