超纯水之旅双级反渗透系统赋能半导体芯片清洗新纪元
在电子工业的发展浪潮中，半导体芯片清洗超纯水设备扮演着至关重要的角色。这些设备能够提供符合美国ASTM纯水标准、国内外电子级水质技术标准以及各种国际半导体行业指标的超纯水，为新兴光电材料生产、LCD液晶显示屏和PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业及FPC/PCB线路板、大规模集成电路等领域提供必要的清洁保障。
随着集成电路技术的飞速进步，对于水质要求日益严格，这也对超纯水处理工艺提出了更高的要求，包括简易性、自动化程度、连续性和可持续性。在实际应用中，半导体清洗超纯水设备通常采用以下制备工艺：
预处理系统通过多种过滤手段去除杂质，然后反渗透系统进一步提高浓度，再经过中间水箱稳定储存。精混合床将有机物去除后，进入纯水箱供用。紫外线杀菌器消灭细菌，同时抛光混床和精密过滤器确保最终产品达到15MΩ.cm或更高水平。
另一种流程是预处理→反渗透→中间储存→ED装置（逆向扩散）→精混合床再次净化后的二次储存→紫外线杀菌与0.2或0.5μm精密过滤，最终达到16MΩ.cm以上。
最先进的一种工艺是预处理→一级反渗透+PH调节加药机调整pH值->第二级正电荷反渗膜->ED装置再一次净化-UV杀菌与最后一层0.2或0.5μm精密过滤，最终产出17MΩ.cm级别的极品质量之水。
这些半导体清洗超純 水設備不仅广泛應用於電解電容器生產铝箔及工作件清洗，更适用于電子管陰極涂敷碳酸盐配液，以及顯像管和陰極射線管生產中的配料使用。此外，它們還被廣泛應用於黑白顯像管荧光屏製作與玻壳處理；液晶顯示器製造中的屏面處理；晶體管生產中的硅片淨化；以及印刷電路板與集成電路相關領域。此外，它們在LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質顯像管萤光粉生產、高科技產品如光纖產品與其他特殊材料研發上也有著不可替代的地位。
