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超纯水洗涤精灵半导体芯片清洁之星

在电子工业的精密领域,超纯水设备扮演着至关重要的角色。这些设备能够提供符合国际标准的超纯水,为半导体芯片清洗和其他高科技产品的生产提供坚实保障。美国ASTM、中国电子工业部以及日本等国家和地区都有自己的严格标准来确保水质,这些标准包括18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm和0.5MΩ.cm五个级别。

光电材料、高品质灯管显像管微电子产业不仅需要大量高纯水,还要求其质量极为精细。这也对超纯水处理工艺提出了更高要求,包括简化操作流程、提高自动化水平、保持生产连续性以及可持续性。

半导体清洗超纯水设备通常采用以下几种制备工艺:

预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器(传统工艺)

预处理系统 → 反渗透 → 中间水箱 → 水泵 → EDI 装置 → 纯水箱 → 纯水泵 → 紫外线杀菌器 → 抛光混床 → 0.2 或 0.5 μm 精密过滤器(现代改进型)

预处理系统 -> 一级反渗透 -> 加药机(PH 调节)-> 中间 water tank -> 二级反渗透(正电荷反渗膜) -> pure water tank -> pure water pump -> EDI device -> UV sterilizer -> 0.2 or 0.5μm precision filter

此类设备广泛应用于电解电容器生产铝箔及工作件清洗,以及电子管阴极涂敷碳酸盐配液;还用于显像管和阴极射线管生产中的配料用途;黑白显像管荧光屏生产中的玻壳清洗;LCD 显示器的屏面清洗与配液;晶体管及集成电路硅片清洗等领域。此外,它们也是实验室、中试车间、高科技产品表面抛光所必需的一部分。

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